光氧凈化器技術注意事項及維護

 

光氧凈化器利用高臭氧紫外光束分解空氣中的氧分子，產生游離氧，即活性氧，由于游離氧攜帶的正負電子不平衡，需要與氧分子結合，進而產生臭氧。+O2 → O-+O *(活性氧)O+O2→O3(臭氧)。臭氧對物體有氧化作用，對惡臭氣體和其他刺激性氣味有清潔作用。

 

光氧凈化器占地面積小，自重輕，適用于布局緊湊、場地狹小的場合。設備占地面積小于1 m2/處理10000m3/h風量。不需要預處理，惡臭氣體不需要預處理，如加熱加濕等。設備工作環境溫度在-30℃-95℃之間，濕度在30%-98%之間，PH值在3-11之間。生產過程中產生的廢氣在風機的抽吸下進入等離子體凈化裝置，使廢氣濃度逐漸降低，然后通過旋流板等裝置排入***氣。凈化后的氣體全部符合相關部門的排放標準，無需添加任何物質:只需設置相應的排氣管和排氣動力，即可通過該設備對惡臭氣體進行除臭、分解和凈化，無需添加任何物質參與化學反應。

 

光氧凈化器的運行效果取決于以下化學反應的支持:

 

1.在紫外光的照射下，二氧化鈦光催化劑用于催化氧氣反應過濾棉，產生光接觸催化反應，從而有效改善和加強紫外光波的能量融合，在裂解廢氣和惡臭氣味分子的同時催化產生更多的活性氧和臭氧，并對廢氣和惡臭氣味進行催化氧反應分離反應，將其降解轉化為低分子化合物、水分子和二氧化碳反應，從而達到除臭和殺菌的目的。

 

2.除臭:能去除揮發性廢氣(VOCs)和各種惡臭氣味，除臭效率高于99%。

 

3.用波段(157nm-189nm)的紫外光束照射廢氣和惡臭氣體，裂解廢氣和惡臭氣體的分子鍵，瞬間打開并改變其分子結構，破壞其核酸，產生一系列光解裂變反應，重排結合DNA分子，將其降解為低分子化學物質，如CO2-O2反應碳和H2O水分子。

 

4.空氣中的氧分子被波段(157nm-189nm)的紫外波照射分離，產生自由氧，即活性氧，由于自由氧攜帶的正負電子不平衡，需要與氧分子結合，進而產生臭氧)；污染物分子被紫外線裂解后，以自由狀態與臭氧反應，形成小分子或低危害化合物。如CO2-雙氧反應碳分子、H2O水分子等。

 

光解催化氧化技術的注意事項；

 

1.惡臭物質能否裂解，取決于它的化學鍵能是否低于提供的光子能。

 

2.裂解反應時間極短(< 0.01s)，氧化反應(見反應④)需2-3s。

 

3.如果提供的光子總功率不足或氧含量不足，會因裂解或氧化而產生一些中間副產物，從而影響凈化效率。對于***分子濃度高的惡臭物質來說是顯而易見的。

 

4.光解凈化長期穩定，要求反應溫度< 70℃，粉塵量< < 100mg/m3，相對濕度< 99%。

 

5.當條件滿足時，光解凈化的凈化效率可以達到以上。

 

光氧凈化器的日常維護:

 

1.對于裝有水塔的廢氣處理系統，每周應換水一次。換水時，塔內的水應通過排水管排干凈。加入正常循環水量的1/3后，應開啟循環水泵，然后再排干凈，再加水至正常水位。(根據待處理廢氣的不同，如果某些水塔需要添加片堿，應適當添加片堿)

 

2.等離子設備的電極組件應每月取出清洗一次。根據污垢的附著程度，如果不太臟，可以用高壓水槍和家用洗滌劑噴灑或用熱水浸泡。如果結垢嚴重，可以用重比為1:25的燒堿和熱水混合溶液快速浸泡洗滌。

 

清潔后，在安裝使用前，應干燥并校正電極座。校正方法:正常使用時放置電極座，從電極座的進氣方向目視檢查各電極單元的發射管是否在接收管(外筒)內。如果目視檢測到偏差，可以通過在發射器中插入直徑為10毫米的鋼棒進行調整。切記不要用力過猛，逐漸加***調整力度。

 

3.每三個月至半年(長固定年限為半年)，視情況，等離子設備的所有電極應取出清洗一次，清洗方法參照***2條。

 

4.當設備不運行時，應關閉系統進氣口的蝶閥，然后在設備需要運行時打開。如果系統裝有可燃氣體檢測探頭，當設備整體運行時間達到500小時時，應拆除系統處的可燃氣體檢測探頭，擰開探頭底部的保護帽，用干燥的壓縮空氣反吹干凈保護帽內的濾芯，然后與探頭組裝安裝回原位。